Тонкие пленки твердых веществ могут быть нанесены на металлические и неметаллические заготовки разнообразными методами. Выбор того или иного метода зависит от наносимого вещества, материала подложки, времени старения пленки, толщины покрытия и ее требуемого распределения.
Тонкие пленки из алюминия, свинца, золота, хрома, титана и других металлов на заготовках можно получить разными методами, главными из которых являются:
а) электроосаждение;
б) химическое осаждение;
в) термическое разложение на нагретой подложке калоидного соединения металла или его газообразного карбонила;
г) взрыв металлических проволок в инертных газах;
д) химическая реакция галоидной соли металла с парами воды, ведущая к образованию окисла металла;
е) катодное распыление металлов или их окислов в разряде низкого давления;
ж) химическое испарение в вакууме металлов и их устойчивых соединений.
Наиболее распространенными в настоящее время методами являются химическое осаждение, испарение в вакууме и катодное распыление. Преимущества этих методов помимо важных технических удобств заключаются главным образом в получении надлежащей воспроизводимости свойств пленок, в возможности легко регулировать толщину покрытия, в осуществимости непрерывного контроля за процессом отложения пленки, а также в возможности получать не только проводящие и изоляционные пленки, но и полупроводниковые, светочувствительные, сегнетоэлектрические и т. д.